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納米加工製造儀

納米加工製造儀

更新時間:2020-06-30

產品型號:NanoFab

產品報價:

產品特點:納米加工製造儀適合各式納米材料及薄膜的表麵粗糙度或表麵形貌量測。l 無需抽真空及快速的量測取得量測圖像。l 直覺性的操作接口。l 一鍵掃描的快速功能。

NanoFab納米加工製造儀的詳細資料:

  納米加工製造儀--NanoFab
 

  適合各式納米材料及薄膜的表麵粗糙度或表麵形貌量測。
 

  l   無需抽真空及快速的量測取得量測圖像。
 

  l   直覺性的操作接口。
 

  l   一鍵掃描的快速功能。
 

  納米加工製造儀可被應用於高解析影像和測量需求,特別是具備次奈米級的 Z 軸分辨率。其低噪聲和開回路設計於一體的掃描儀可以快速地針對樣本進行掃描。獨特光像散式的光路模塊提供業界最小的雷射光點,讓用戶可運用於更小且快速的AFM 探針。
 

  直覺式的數據擷取軟件 PSX 可提供用戶在最基本教育訓練下,即可直接操作。值得一提的是,一鍵掃描功能可自動地設定參數與進行掃描,用戶同樣能夠快速獲得高質量的掃描結果。PSX 內建的掃描庫管理功能有效地簡化掃描數據的整理,以方便用戶刪除或輸出掃描圖文件。
 

  永效性的光路校準係統---雷射點實時維持在四象限二極管中心,不須另外校正。
 

  一鍵掃描- 藉由智能預測算法,即可輕鬆點擊按鍵便可進行全自動掃頻、下針、做力圖曲線、以及掃描樣品等相關流程。
 

  應用案例和模塊信息介紹-微接觸印刷(μCP):
 

  描述:微接觸印刷(μCP)是一種非光刻技術,也是“軟刻蝕技術”的前身。μCP是一種常有吸引力的、可以應用於生物技術領域的、用於微米和納米圖案/結構製備的技術。它使用彈性印章,通過將各種分子(從有機分子到大的生物物質)點印到固體基底上,以生成二維的微米和納米結構。這項技術包括兩個主要步驟:印章的製作及印刷,如圖所示。包被靶標分子的彈性印章通過預施加的控製來接觸基底表麵,從而將靶標分子轉移到基底上。不同的大小和形狀的幾何圖形可以生成各種各樣的印章,例如可以使用大的平麵印章或滾動印章(類似於油漆輥)在平麵和非平麵表麵上點印,從而輕鬆地對很大的區域進行圖案製備。印章是由彈性體聚合物製成,如聚二甲基矽氧烷(PDMS),聚氨酯,聚酰亞胺和樹脂等等。
 

  應用:微接觸印刷是一個從下而上的加工技術,由於簡單方便,高通量和成本低廉,現廣泛應用於多個領域,如光學、MEMS、高密度分子電路、微流體、微陣列和生物傳感器點印寡核苷酸、固定細胞來研究細胞-細胞和細胞-基底表麵的相互作用、生成肽陣列研究免疫實驗和生物傳感器實驗的蛋白質和生物配體。 红杏视频破解版无限观看客戶還可以探索如何在大尺寸和納米尺度上點印計算機芯片或者如何製作生物傳感器。例如,在實驗室裏,可以使用大尺寸和納米尺度的印章,用光刻技術製作納米印章模板和聚合物。印章將被包被有機小分子與黃金等貴金屬,然後點印在黃金薄膜的基底上,隨後的是金的濕蝕刻,沒有被有機分子保護的區域將被蝕刻。在這樣的一個實驗中,印章上的結構將被複製到基底上。
 

  應用案例和模塊信息介紹-光刻技術:
 

  光刻技術是當今世界上X成功的精密加工技術之一。自1959年發明以來,它就是有價值和有利潤的行業,最初是開發出來用於微電子工業(集成電路平麵技術),現在也被用來製造微型器件(矽晶體平麵的三維結構材料刻蝕)。從那以後,這個行業一直在廣泛需求中不斷發展,包括單個電路元件和整合的半導體材料,基本上所有的集成電路是用光刻技術製造的。光刻工藝概述如圖所示,預先設計的圖案是從光掩模(例如用電子束光刻法)傳送到靶標的矽基底。該程序包括以下常用的步驟: 1、在矽片層基底上包被一層薄薄的紫外線敏感的聚合物抗蝕劑(光刻膠)(圖2a,圖2b)。 2、隨後紫外光透過有圖案的印章(圖2c)進行照射,隻有部分抗蝕劑暴露在紫外線下,這引起了抗蝕溶解度的變化。然後將印章放置於離樣品盡可能近的地方但是不接觸,如圖2c所示。由於光衍射,輻射麵積會增大一些,大於印章對應的開口區域(這將導致分辨率降低)。這種光刻蝕程序隻能用於創建尺寸小於輻射波長的圖案和器件。因此,半導體工業也開始使用更短波長的光線來做輻射。 3、紫外線曝光後,將樣品浸入顯影劑中,以便從顯影劑中除去光刻膠暴露在光線下的地方(圖2d)。 4. 矽晶片上的抗蝕圖案隨後被用來從裸片上蝕刻材料(將矽晶片暴露於蝕刻劑)(圖2e)或沉積電路設計需要的其他材料。最後光刻膠完全脫離矽晶片(圖2)。
 

  在這四個步驟之後,抗蝕劑(光刻膠)上的圖案特征被轉移到矽晶片的基底上(步驟f)。整個過程可以按電路設計要求重複多次。 用途:光刻蝕是一種從上而下的製作工藝,選擇光刻蝕工藝是因為它可以產生小到幾十納米的圖案,並提供精確的控製形狀,大小,並且製備成本非常低。
 

  光刻技術被廣泛應用於從微電子到生命科學的各個行業,在可預見的未來,它還將是微處理器、存儲器和其他微電子設備信息技術的基礎。此外,它還用於許多設備的製造業和小型化,從而帶來了高性能、可移植性、節約時間、節省成本、節省試劑、提高生產通量、改善功耗、提高檢測限度以及新功能的開發。
 

  納米加工製造儀應用案例和模塊信息介紹-納米壓印加工技術(NIL):
 

  描述:納米壓印加工技術(NIL)是基於一種與傳統微加工有著根本區別的原理,該技術具有高通量,小於10納米分辨率和低成本的優點,是目前其他現有刻蝕方法無法達到的。在壓印過程中,圖案被熱敏或紫外光複製到抗蝕劑中,然後被轉移到下麵的基底上。在熱敏納米壓印加工技術(NIL)(T-NIL)工藝中,將表麵具有納米結構的模具壓入基底上鑄造的薄層抗蝕劑中。抗蝕劑是一種熱敏塑料,由於粘度低,在玻璃化溫度(Tg)以上時容易變形。當抗蝕劑冷卻到Tg以下時,模具被移除,模具的圖案被複製在抗蝕劑中。在光固化納米壓印加工技術(UV- NIL)中,將模具在室溫下,壓入頂層的UV光刻膠中,然後紫外照射交聯抗蝕劑,最後模具複製品轉移到底層的抗蝕劑和基底上。
 

  在這兩個過程中,模具表麵都塗上了鈍化層,以防止在分離過程中抗蝕劑粘在模具上。在圖案轉移過程中,利用反應離子刻蝕~RIE等各向異性刻蝕工藝去除壓縮區域的殘餘抗蝕劑,將壓印中產生的厚度對比圖案轉移到整個抗蝕劑中。 應用:為了加快納米結構的研究和商業化,必須有一個高通量和低成本的納米加工技術,來實現尺寸、形狀和間距完全自由化的設計。這就是為什麽納米壓印會快速發展,並且它已經擴展到許多學科,如微電子學、生物學、化學、醫學和信息存儲。還有希望應用於光學器件、磁存儲器、微電子機械係統、生物技術、微波器件的三D打印、生物技術中使用的微流控通道、存儲器VRAM的環形結構、無源光學元件等。

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